如何在SCNTechnique中使用模板？

Question

基本上，我想在立方体周围呈现一个轮廓。为此，我认为可以使用具有以下呈现传递的SCNTechnique：

1. 将数据集正常呈现，并将其占用的像素写入模具缓冲区。
2. 渲染稍大的立方体，如果他们没有交叉的模具在第一次通过。

问题是，SCNTechnique中的模板文档非常稀少，我无法精确地计算出如何使用它。

我已经成功地绘制了轮廓，首先绘制更大的“大纲立方体”，然后禁用深度测试，然后再绘制正常的立方体，这很好，但是由于这种方法的其他复杂情况，我想使用模板来代替。

为了让它使用模具缓冲区工作，我的第一次传递的stencilStates看起来很像(以及为什么我认为我需要这些属性)：

clear = YES  // To clear the buffer from last 
enable = YES // To write to the buffer
behavior:
    writeMask = 1     // Use bit 1
    function = always // Always write to stencil regardless?

第二次传递的stencilStates如下所示：

clear = NO   // Keep the buffer from last step
enable = NO  // Don't write to the buffer (only read?)
behavior:
    readMask = 1      // Use bit 1
    fail     = keep   // Not sure if these...
    pass     = zero   // ...should be the other way round

有相当其他一些属性的模具缓冲行为，但我不确定我需要哪一个和如何使用它们。我也不确定模板缓冲区是否需要作为输入或输出列出每一次？

编辑1:，这正是我想要实现的，首先绘制蓝色、更大的大纲立方体，而不写入深度缓冲区：

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如果不是因为在这个庄园里画一些副作用，我会把实现留在这里，但是我认为模板方法可以避免这些副作用，我认为知道如何使用它们是有用的！

编辑2:我一直在玩，试图直接使用OpenGL (在C中)产生类似的效果。我并不完全理解模板是如何工作的(基本上我借用了教程中的代码)，但是这些命令产生了我想要实现的目标。

在绘制主多维数据集之前，写入模具缓冲区：

glStencilFunc(GL_ALWAYS, 1, 0xFF); // Set any stencil to 1
glStencilOp(GL_KEEP, GL_KEEP, GL_REPLACE);
glStencilMask(0xFF); // Write to stencil buffer
glClear(GL_STENCIL_BUFFER_BIT); // Clear stencil buffer (0 by default)

绘制主多维数据集之后，在绘制较大的大纲多维数据集之前，测试当前模具缓冲区：

glStencilFunc(GL_EQUAL, 0, 0xFF); // Pass test if stencil value is 0
glStencilMask(0x00); // Don't write anything to stencil buffer

因此，问题是如何使用SCNTechnique实现上述目标。

Answer 1

您可以使用SCNTechnique绘制大纲。其思想是将对象掩码绘制到缓冲区中，模糊掩码的一个通道，然后将其与原始呈现的帧结合起来。该组合着色器检查模糊不清的通道，而非模糊的通道，并且只呈现物体的外部轮廓。

这里有一个例子在节点周围画了一个亮点：https://github.com/laanlabs/SCNTechniqueGlow，您应该能够修改它以获得您想要的效果。