白光干涉仪的光谱干涉模式作为一种先进的测量手段,为众多领域提供了可靠的测量方案,深入探究其原理对拓展测量应用具有重要意义。 光源与干涉基本原理光谱干涉模式采用白光作为宽带光源,白光包含了多种不同波长的光。当白光进入干涉仪后,会被分光元件分为参考光和测量光两束光。参考光沿固定光路传播,测量光照射到被测物体表面后反射回来。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪1)一改传统白光干涉操作复杂的问题,实现一键智能聚焦扫描,亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 3)可搭载多普勒激光测振系统,实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例1,优于1nm分辨率,轻松测量硅片表面粗糙度测量,Ra=0.7nm2,毫米级视野,实现5nm-有机油膜厚度扫描3,卓越的“高深宽比”测量能力,实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。
引言在精密光学测量领域,激光面型干涉仪与白光干涉仪都是重要的测量设备。二者虽都基于干涉原理实现测量,但在多个方面存在显著差异。深入了解这些区别,有助于在实际应用中根据需求选择合适的测量仪器。 而白光干涉仪使用白光作为光源,白光包含了从可见光到近红外波段的多种波长成分,是宽带光源,其光谱范围广,但相干长度较短,这一特性决定了白光干涉仪在测量原理和适用场景上与激光面型干涉仪有所不同。 常见的如泰曼 - 格林干涉仪等,通过分析干涉条纹的形状、间距和扭曲程度,结合波长等参数计算被测表面的面型误差。白光干涉仪主要通过垂直扫描干涉测量(VSI)或相移干涉测量(PSI)等模式实现测量。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪1)一改传统白光干涉操作复杂的问题,实现一键智能聚焦扫描,亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 3)可搭载多普勒激光测振系统,实现实现“动态”3D轮廓测量。
引言在精密光学测量技术中,白光干涉仪与激光干涉仪凭借各自独特的光学特性,成为不同测量场景的核心工具。二者虽均基于光的干涉现象,但在光源选择、干涉机制及应用方向上存在本质差异。 干涉机制与信号处理的区别白光干涉仪的干涉机制白光经分光镜分为两束后,参考光经固定参考镜反射,物光经样品表面反射,两束光在接收端形成干涉条纹。由于相干长度短,只有样品表面某一高度层能产生清晰条纹。 在操作复杂度上,白光干涉仪需进行繁琐的光学对准和参数校准,对操作人员专业要求较高;激光干涉仪则多采用自动化光路设计,校准流程简化,更易实现集成化测量。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。
一、引言白光干涉仪作为一种高精度光学测量仪器,在微电子制造、精密机械加工、生物医学等领域有着广泛应用。 二、白光干涉仪的基本构成白光干涉仪主要由光源系统、干涉系统、成像系统和数据处理系统四部分组成。光源系统通常采用白光光源,如卤钨灯、氙灯等。 此外,对于透明介质的厚度测量,白光干涉仪利用光在介质上下表面反射产生的干涉条纹,通过分析条纹的特征可计算出介质的厚度。 由于不同波长的光在介质中的折射率不同,结合白光干涉的特性,能够实现对透明介质厚度的高精度测量。大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式! 大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
摘要:本文探讨白光干涉仪在金属刻蚀后的 3D 轮廓测量中的应用,分析其工作原理及适配金属材料特性的技术优势,通过实际案例验证其测量精度,为金属刻蚀工艺的质量控制与器件性能优化提供技术支持。 关键词:白光干涉仪;金属刻蚀;3D 轮廓测量;精密制造一、引言金属刻蚀是微电子、光电子器件制造中的关键工艺,用于制备导电线路、电极等金属微结构,其刻蚀后的 3D 轮廓(如线宽、深度、侧壁平整度)直接影响器件的电学性能与可靠性 白光干涉仪凭借非接触、抗反光干扰及高分辨率特性,成为金属刻蚀后 3D 轮廓测量的理想工具。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于低相干干涉技术实现三维形貌重构。 采用白光干涉仪配置 50× 物镜(视场 0.5mm×0.5mm)与反光抑制模式,测量结果显示:实际线宽为 5.02±0.03μm,深度 198±2nm,局部区域因刻蚀液浓度不均出现侧壁凹陷(深度≤3nm 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
白光干涉仪凭借非接触、纳米级精度、三维成像的特性,成为 EUV 光刻后 3D 轮廓测量的关键工具,为曝光能量控制、掩模缺陷修复提供精准数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性超纳米级精度测量能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.05nm,横向分辨率 0.2μm,通过共聚焦干涉(CSI)与相移干涉(PSI)复合模式,可重建 EUV 光刻图形的原子级三维形貌。 典型应用案例在 3nm 逻辑芯片的 EUV 光刻测量中,白光干涉仪检测出某曝光场的 CD 均匀性 3σ=0.6nm(标准 < 0.8nm),但局部区域存在 0.3nm 的高度偏差,追溯为 EUV 曝光能量的微区波动 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
白光干涉仪凭借非接触、高精度、三维成像的特性,成为纳米压印光刻后 3D 轮廓测量的核心工具,为压印压力优化、模板磨损评估提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性三维轮廓精准重建能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过垂直扫描干涉(VSI)模式可完整重建纳米压印图形的三维形貌。 典型应用案例在纳米光栅压印测量中,白光干涉仪检测出光栅深度标准差达 4nm(设计值 150nm),表面粗糙度 Ra=1.2nm,追溯为压印温度分布不均,调整温控系统后深度均匀性提升至 3σ=1.5nm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
摘要:本文研究白光干涉仪在 ICP 刻蚀后的 3D 轮廓测量应用,阐述其工作原理与技术优势,通过实例验证其对刻蚀后表面形貌的精准检测能力,为 ICP 刻蚀工艺的质量控制提供参考。 传统测量方法难以平衡精度与效率,而白光干涉仪以非接触、高分辨率特性,成为 ICP 刻蚀后 3D 轮廓检测的核心工具。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于低相干干涉效应实现三维重构。 采用白光干涉仪 50× 物镜(视场 0.5mm×0.5mm)扫描,结果显示:实际深度 198±3nm,线宽最大偏差 8nm,局部因等离子体耦合不均出现 5nm 深度超差。 五、结语白光干涉仪凭借对复杂结构的兼容性、纳米级精度及高效检测能力,为 ICP 刻蚀后的 3D 轮廓测量提供了可靠解决方案,助力微纳器件制造的工艺优化与质量管控。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
白光干涉仪凭借非接触、纳米级精度、三维成像的特性,成为浸没式光刻后轮廓测量的核心工具,为液体折射率控制、曝光焦距优化提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性纳米级缺陷分辨能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过相移干涉(PSI)模式可清晰区分 3nm 高的水迹与 50nm 高的光刻胶图形。 典型应用案例在 7nm 逻辑芯片的浸没式光刻测量中,白光干涉仪检测出曝光场边缘 CD 存在 1.5nm 偏差,追溯为液体折射率分布不均,调整流量控制系统后 CD 均匀性提升至 3σ=0.9nm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
摘要:本文研究白光干涉仪在芯片晶圆沟槽 3D 轮廓测量中的应用,分析其工作原理及适配沟槽结构的技术优势,通过实际案例验证其测量精度,为芯片晶圆沟槽制造的质量控制与工艺优化提供技术支持。 关键词:白光干涉仪;芯片晶圆;沟槽;3D 轮廓测量一、引言芯片晶圆沟槽是集成电路中的关键结构,承担着信号传输、散热等重要功能,其 3D 轮廓参数(如深度、宽度、侧壁垂直度、底部平整度)直接影响芯片的电学性能与可靠性 白光干涉仪凭借非接触、高分辨率及三维重构能力,成为芯片晶圆沟槽 3D 轮廓测量的核心技术手段。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于低相干干涉技术实现三维形貌重构。 五、结语白光干涉仪在芯片晶圆沟槽 3D 轮廓测量中展现出显著优势,其对沟槽结构的适配性、高精度参数检测能力及高效全域表征特性,为芯片晶圆沟槽的工艺优化与质量管控提供了可靠技术支撑,助力提升集成电路的制造精度与性能稳定性 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
摘要: 本文阐述了白光干涉仪在晶圆化学蚀刻后 3D 轮廓测量中的应用。 介绍了白光干涉仪的工作原理与技术优势,通过实际案例分析其在获取蚀刻后晶圆表面精确 3D 轮廓数据方面的有效性,为半导体制造中晶圆表面质量检测提供了重要参考。 精确测量蚀刻后晶圆的 3D 轮廓,对于评估蚀刻效果、优化工艺参数至关重要。白光干涉仪作为一种先进的非接触式测量设备,在该领域展现出独特优势。 二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于白光干涉原理,投射宽带光源到晶圆表面。晶圆表面反射光与参考光干涉形成干涉图样。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
白光干涉仪的膜厚测量模式,凭借高精度、非接触等优势,成为膜厚测量的重要技术手段,深入剖析其原理有助于更好地发挥该模式的测量效能。 光路结构与干涉基础白光干涉仪膜厚测量模式中,白光经准直后进入干涉仪的分光系统,被分为参考光束与测量光束。参考光束沿固定路径传播至参考镜反射,测量光束则照射在待测薄膜样品表面。 膜厚计算与测量实现依据提取的相位信息,结合已知的光源波长范围、干涉仪系统参数以及薄膜材料的折射率等数据,通过特定的数学模型和算法,可计算出薄膜的厚度值。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪1)一改传统白光干涉操作复杂的问题,实现一键智能聚焦扫描,亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 3)可搭载多普勒激光测振系统,实现实现“动态”3D轮廓测量。
白光干涉仪凭借非接触、高精度、大面积三维成像的特性,成为步进重复光刻后轮廓测量的核心工具,为步进精度校正、曝光剂量优化提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性跨场三维参数提取能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过垂直扫描干涉(VSI)模式可重建不同曝光场的三维形貌。 典型应用案例在 7nm 逻辑芯片的步进光刻测量中,白光干涉仪检测出第 15-20 号曝光场的 CD 比初始场大 1.8nm,高度低 3nm,追溯为步进平台温度漂移导致的焦距偏差,调整温控系统后跨场 CD 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
白光干涉仪凭借非接触、纳米级精度、大面积三维成像的特性,成为步进扫描光刻后轮廓测量的核心工具,为扫描速度优化、投影透镜像差校正提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性扫描方向梯度捕捉能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过线扫描干涉(LSI)模式可实现扫描方向的高速数据采集(扫描速率达 5mm/s)。 典型应用案例在 3nm 逻辑芯片的步进扫描测量中,白光干涉仪检测出扫描方向 CD 存在 0.8nm/mm 的正向梯度,追溯为扫描电机速度非线性偏差,调整伺服参数后梯度降至 0.2nm/mm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
摘要:本文探讨白光干涉仪在高深宽比刻蚀后的 3D 轮廓测量中的应用,分析其工作原理及适配高深宽比结构的技术特性,通过实际案例验证其测量效能,为微纳制造中高深宽比结构的质量控制提供技术参考。 关键词:白光干涉仪;高深宽比刻蚀;3D 轮廓测量;微纳结构一、引言高深宽比刻蚀是制造微纳尺度精密结构的核心工艺,广泛应用于 MEMS、半导体器件等领域,其形成的深沟槽、高柱状结构(深宽比通常>10:1) 白光干涉仪凭借独特的低相干干涉特性与先进的信号处理算法,成为高深宽比刻蚀后 3D 轮廓测量的关键技术手段。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于宽带光源的低相干干涉效应实现三维形貌重构。 五、结语白光干涉仪在高深宽比刻蚀后的 3D 轮廓测量中展现出显著优势,其对深结构的信号捕捉能力、高分辨率全参数表征特性及非接触保护能力,为高深宽比器件的工艺优化与质量管控提供了可靠技术支撑,助力提升微纳制造的精密化水平 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
引言在微纳米尺度表面形貌测量领域,白光干涉仪凭借非接触、高精度的优势,成为获取物体 3D 轮廓的重要工具。 白光干涉仪的基本构成与干涉条纹形成白光干涉仪主要由光源系统、干涉光路、扫描系统和探测系统组成。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 三大核心技术革新1)智能操作革命:告别传统白光干涉仪复杂操作流程,一键智能聚焦扫描功能,轻松实现亚纳米精度测量,且重复性表现卓越,让精密测量触手可及。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。
引言在微纳米级表面测量领域,白光干涉仪凭借其高精度检测能力占据重要地位,而垂直分辨率作为衡量其性能的核心指标之一,直接决定了对样品表面微观起伏的捕捉能力。 垂直分辨率的定义与内涵垂直分辨率,即白光干涉仪在 Z 轴方向上能够分辨的最小高度差,是表征仪器对样品表面微小高度变化识别能力的关键参数。 其数值通常以纳米甚至亚纳米为单位,例如部分高端白光干涉仪的垂直分辨率可达到 0.1 纳米级别。 例如,采用宽光谱 LED 光源的白光干涉仪,其垂直分辨率通常优于传统单色光源干涉仪。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
摘要:本文聚焦白光干涉仪在晶圆玻璃刻蚀后的 3D 轮廓测量应用,阐述其工作原理与技术特点,结合实际案例说明其在获取刻蚀后晶圆玻璃表面精准 3D 轮廓数据上的作用,为相关制造领域的质量检测提供参考。 关键词:白光干涉仪;晶圆玻璃;刻蚀;3D 轮廓测量一、引言晶圆玻璃在诸多高科技领域应用广泛,其刻蚀后的表面 3D 轮廓精度直接影响器件性能。 白光干涉仪凭借独特的测量性能,成为晶圆玻璃刻蚀后 3D 轮廓测量的理想工具。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪以白光干涉现象为基础,将宽带白光光源投射到晶圆玻璃表面。 四、应用实例某电子制造企业在晶圆玻璃刻蚀工艺后,采用白光干涉仪对其 3D 轮廓进行测量。选取刻蚀后的 6 英寸晶圆玻璃,设置合适的测量范围和分辨率参数,对其表面进行扫描。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
白光干涉仪凭借非接触、高精度、三维成像的特性,成为刻蚀后轮廓测量的核心工具,为刻蚀气体流量优化、射频功率调整等工艺改进提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性高深宽比结构的三维重建能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过垂直扫描干涉(VSI)与共聚焦干涉(CSI)复合模式,可清晰重建深宽比 20:1 的刻蚀结构 高效批量检测能力通过拼接扫描技术,白光干涉仪可在 12 分钟内完成 12 英寸晶圆的全域三维成像,生成刻蚀参数的空间分布热力图。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。
白光干涉仪凭借非接触、高精度、大面积成像的特性,成为湿法刻蚀后 3D 轮廓测量的核心工具,为腐蚀液浓度优化、刻蚀时间控制提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性大面积轮廓重建能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 1μm,通过垂直扫描干涉(VSI)模式可实现 12 英寸晶圆的全域三维成像。 典型应用案例在硅片湿法减薄测量中,白光干涉仪检测出边缘 5mm 区域的厚度比中心厚 18nm(目标厚度 500μm),追溯为腐蚀液边缘浓度降低,调整旋转速度后均匀性提升至 3σ=7nm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。