首页
学习
活动
专区
圈层
工具
发布
    • 综合排序
    • 最热优先
    • 最新优先
    时间不限
  • 激光面型干涉仪和白光干涉仪的区别

    引言在精密光学测量领域,激光面型干涉仪与白光干涉仪都是重要的测量设备。二者虽都基于干涉原理实现测量,但在多个方面存在显著差异。深入了解这些区别,有助于在实际应用中根据需求选择合适的测量仪器。 而白光干涉仪使用白光作为光源,白光包含了从可见光到近红外波段的多种波长成分,是宽带光源,其光谱范围广,但相干长度较短,这一特性决定了白光干涉仪在测量原理和适用场景上与激光面型干涉仪有所不同。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪1)一改传统白光干涉操作复杂的问题,实现一键智能聚焦扫描,亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 3)可搭载多普勒激光测振系统,实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例1,优于1nm分辨率,轻松测量硅片表面粗糙度测量,Ra=0.7nm2,毫米级视野,实现5nm-有机油膜厚度扫描3,卓越的“高深宽比”测量能力,实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。

    34010编辑于 2025-07-21
  • 白光干涉仪与激光干涉仪的区别解析

    引言在精密光学测量技术中,白光干涉仪与激光干涉仪凭借各自独特的光学特性,成为不同测量场景的核心工具。二者虽均基于光的干涉现象,但在光源选择、干涉机制及应用方向上存在本质差异。 在操作复杂度上,白光干涉仪需进行繁琐的光学对准和参数校准,对操作人员专业要求较高;激光干涉仪则多采用自动化光路设计,校准流程简化,更易实现集成化测量。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。​ 分层膜厚无损检测:采用非接触、非破坏测量方式,对多层薄膜进行 3D 形貌重构,精准分析各层膜厚分布,为薄膜材料研究提供无损检测新方案。​新启航半导体,专业提供综合光学3D测量解决方案!

    53110编辑于 2025-08-25
  • 白光干涉仪在金属刻蚀后的 3D 轮廓测量

    摘要:本文探讨白光干涉仪在金属刻蚀后的 3D 轮廓测量中的应用,分析其工作原理及适配金属材料特性的技术优势,通过实际案例验证其测量精度,为金属刻蚀工艺的质量控制与器件性能优化提供技术支持。 关键词:白光干涉仪;金属刻蚀;3D 轮廓测量;精密制造一、引言金属刻蚀是微电子、光电子器件制造中的关键工艺,用于制备导电线路、电极等金属微结构,其刻蚀后的 3D 轮廓(如线宽、深度、侧壁平整度)直接影响器件的电学性能与可靠性 白光干涉仪凭借非接触、抗反光干扰及高分辨率特性,成为金属刻蚀后 3D 轮廓测量的理想工具。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于低相干干涉技术实现三维形貌重构。 采用白光干涉仪配置 50× 物镜(视场 0.5mm×0.5mm)与反光抑制模式,测量结果显示:实际线宽为 5.02±0.03μm,深度 198±2nm,局部区域因刻蚀液浓度不均出现侧壁凹陷(深度≤3nm 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    20410编辑于 2025-10-17
  • 白光干涉仪在 EUV 光刻后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪凭借非接触、纳米级精度、三维成像的特性,成为 EUV 光刻后 3D 轮廓测量的关键工具,为曝光能量控制、掩模缺陷修复提供精准数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性超纳米级精度测量能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.05nm,横向分辨率 0.2μm,通过共聚焦干涉(CSI)与相移干涉(PSI)复合模式,可重建 EUV 光刻图形的原子级三维形貌。 典型应用案例在 3nm 逻辑芯片的 EUV 光刻测量中,白光干涉仪检测出某曝光场的 CD 均匀性 3σ=0.6nm(标准 < 0.8nm),但局部区域存在 0.3nm 的高度偏差,追溯为 EUV 曝光能量的微区波动 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    28310编辑于 2025-09-20
  • 白光干涉仪在纳米压印光刻后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪凭借非接触、高精度、三维成像的特性,成为纳米压印光刻后 3D 轮廓测量的核心工具,为压印压力优化、模板磨损评估提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性三维轮廓精准重建能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过垂直扫描干涉(VSI)模式可完整重建纳米压印图形的三维形貌。 典型应用案例在纳米光栅压印测量中,白光干涉仪检测出光栅深度标准差达 4nm(设计值 150nm),表面粗糙度 Ra=1.2nm,追溯为压印温度分布不均,调整温控系统后深度均匀性提升至 3σ=1.5nm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    36910编辑于 2025-09-22
  • 白光干涉仪的光谱干涉模式原理

    白光干涉仪的光谱干涉模式作为一种先进的测量手段,为众多领域提供了可靠的测量方案,深入探究其原理对拓展测量应用具有重要意义。 当白光进入干涉仪后,会被分光元件分为参考光和测量光两束光。参考光沿固定光路传播,测量光照射到被测物体表面后反射回来。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪1)一改传统白光干涉操作复杂的问题,实现一键智能聚焦扫描,亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 3)可搭载多普勒激光测振系统,实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例1,优于1nm分辨率,轻松测量硅片表面粗糙度测量,Ra=0.7nm2,毫米级视野,实现5nm-有机油膜厚度扫描3,卓越的“高深宽比”测量能力,实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。

    35310编辑于 2025-07-14
  • 白光干涉仪在 ICP 刻蚀后的 3D 轮廓测量

    摘要:本文研究白光干涉仪在 ICP 刻蚀后的 3D 轮廓测量应用,阐述其工作原理与技术优势,通过实例验证其对刻蚀后表面形貌的精准检测能力,为 ICP 刻蚀工艺的质量控制提供参考。 传统测量方法难以平衡精度与效率,而白光干涉仪以非接触、高分辨率特性,成为 ICP 刻蚀后 3D 轮廓检测的核心工具。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于低相干干涉效应实现三维重构。 采用白光干涉仪 50× 物镜(视场 0.5mm×0.5mm)扫描,结果显示:实际深度 198±3nm,线宽最大偏差 8nm,局部因等离子体耦合不均出现 5nm 深度超差。 五、结语白光干涉仪凭借对复杂结构的兼容性、纳米级精度及高效检测能力,为 ICP 刻蚀后的 3D 轮廓测量提供了可靠解决方案,助力微纳器件制造的工艺优化与质量管控。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    17810编辑于 2025-10-16
  • 白光干涉仪在浸没式光刻后的 3D 轮廓测量

    例如,14nm 节点器件要求浸没式光刻后的 CD 均匀性 3σ<1.5nm,高度偏差 < 3nm。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性纳米级缺陷分辨能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过相移干涉(PSI)模式可清晰区分 3nm 高的水迹与 50nm 高的光刻胶图形。 典型应用案例在 7nm 逻辑芯片的浸没式光刻测量中,白光干涉仪检测出曝光场边缘 CD 存在 1.5nm 偏差,追溯为液体折射率分布不均,调整流量控制系统后 CD 均匀性提升至 3σ=0.9nm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    29410编辑于 2025-09-19
  • 白光干涉仪在芯片晶圆沟槽的 3D 轮廓测量

    摘要:本文研究白光干涉仪在芯片晶圆沟槽 3D 轮廓测量中的应用,分析其工作原理及适配沟槽结构的技术优势,通过实际案例验证其测量精度,为芯片晶圆沟槽制造的质量控制与工艺优化提供技术支持。 关键词:白光干涉仪;芯片晶圆;沟槽;3D 轮廓测量一、引言芯片晶圆沟槽是集成电路中的关键结构,承担着信号传输、散热等重要功能,其 3D 轮廓参数(如深度、宽度、侧壁垂直度、底部平整度)直接影响芯片的电学性能与可靠性 白光干涉仪凭借非接触、高分辨率及三维重构能力,成为芯片晶圆沟槽 3D 轮廓测量的核心技术手段。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于低相干干涉技术实现三维形貌重构。 五、结语白光干涉仪在芯片晶圆沟槽 3D 轮廓测量中展现出显著优势,其对沟槽结构的适配性、高精度参数检测能力及高效全域表征特性,为芯片晶圆沟槽的工艺优化与质量管控提供了可靠技术支撑,助力提升集成电路的制造精度与性能稳定性 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    21610编辑于 2025-10-18
  • 白光干涉仪在晶圆化学蚀刻后的 3D 轮廓测量

    摘要: 本文阐述了白光干涉仪在晶圆化学蚀刻后 3D 轮廓测量中的应用。 介绍了白光干涉仪的工作原理与技术优势,通过实际案例分析其在获取蚀刻后晶圆表面精确 3D 轮廓数据方面的有效性,为半导体制造中晶圆表面质量检测提供了重要参考。 精确测量蚀刻后晶圆的 3D 轮廓,对于评估蚀刻效果、优化工艺参数至关重要。白光干涉仪作为一种先进的非接触式测量设备,在该领域展现出独特优势。 四、应用实例在某半导体制造企业,对化学蚀刻后的 8 英寸晶圆进行 3D 轮廓测量。使用白光干涉仪,设置合适测量参数,对晶圆表面多个区域进行扫描。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    25110编辑于 2025-09-28
  • 白光干涉仪在步进重复光刻后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性跨场三维参数提取能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过垂直扫描干涉(VSI)模式可重建不同曝光场的三维形貌。 典型应用案例在 7nm 逻辑芯片的步进光刻测量中,白光干涉仪检测出第 15-20 号曝光场的 CD 比初始场大 1.8nm,高度低 3nm,追溯为步进平台温度漂移导致的焦距偏差,调整温控系统后跨场 CD 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。​

    29010编辑于 2025-09-17
  • 白光干涉仪在步进扫描光刻后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性扫描方向梯度捕捉能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过线扫描干涉(LSI)模式可实现扫描方向的高速数据采集(扫描速率达 5mm/s)。 典型应用案例在 3nm 逻辑芯片的步进扫描测量中,白光干涉仪检测出扫描方向 CD 存在 0.8nm/mm 的正向梯度,追溯为扫描电机速度非线性偏差,调整伺服参数后梯度降至 0.2nm/mm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。​

    29310编辑于 2025-09-18
  • 白光干涉仪在高深宽比刻蚀后的 3D 轮廓测量

    摘要:本文探讨白光干涉仪在高深宽比刻蚀后的 3D 轮廓测量中的应用,分析其工作原理及适配高深宽比结构的技术特性,通过实际案例验证其测量效能,为微纳制造中高深宽比结构的质量控制提供技术参考。 关键词:白光干涉仪;高深宽比刻蚀;3D 轮廓测量;微纳结构一、引言高深宽比刻蚀是制造微纳尺度精密结构的核心工艺,广泛应用于 MEMS、半导体器件等领域,其形成的深沟槽、高柱状结构(深宽比通常>10:1) 白光干涉仪凭借独特的低相干干涉特性与先进的信号处理算法,成为高深宽比刻蚀后 3D 轮廓测量的关键技术手段。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪基于宽带光源的低相干干涉效应实现三维形貌重构。 五、结语白光干涉仪在高深宽比刻蚀后的 3D 轮廓测量中展现出显著优势,其对深结构的信号捕捉能力、高分辨率全参数表征特性及非接触保护能力,为高深宽比器件的工艺优化与质量管控提供了可靠技术支撑,助力提升微纳制造的精密化水平 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    26910编辑于 2025-10-13
  • 白光干涉仪通过干涉条纹测量 3D 轮廓的原理解析

    引言在微纳米尺度表面形貌测量领域,白光干涉仪凭借非接触、高精度的优势,成为获取物体 3D 轮廓的重要工具。 白光干涉仪的基本构成与干涉条纹形成白光干涉仪主要由光源系统、干涉光路、扫描系统和探测系统组成。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 三大核心技术革新​1)智能操作革命:告别传统白光干涉仪复杂操作流程,一键智能聚焦扫描功能,轻松实现亚纳米精度测量,且重复性表现卓越,让精密测量触手可及。​ 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。​

    65810编辑于 2025-08-22
  • 白光干涉仪在芯片刻蚀工艺后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性高深宽比结构的三维重建能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过垂直扫描干涉(VSI)与共聚焦干涉(CSI)复合模式,可清晰重建深宽比 20:1 的刻蚀结构 3σ=2nm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。​

    26010编辑于 2025-09-26
  • 白光干涉仪在晶圆玻璃刻蚀后的 3D 轮廓测量

    摘要:本文聚焦白光干涉仪在晶圆玻璃刻蚀后的 3D 轮廓测量应用,阐述其工作原理与技术特点,结合实际案例说明其在获取刻蚀后晶圆玻璃表面精准 3D 轮廓数据上的作用,为相关制造领域的质量检测提供参考。 关键词:白光干涉仪;晶圆玻璃;刻蚀;3D 轮廓测量一、引言晶圆玻璃在诸多高科技领域应用广泛,其刻蚀后的表面 3D 轮廓精度直接影响器件性能。 白光干涉仪凭借独特的测量性能,成为晶圆玻璃刻蚀后 3D 轮廓测量的理想工具。二、白光干涉仪工作原理白光干涉仪以白光干涉现象为基础,将宽带白光光源投射到晶圆玻璃表面。 四、应用实例某电子制造企业在晶圆玻璃刻蚀工艺后,采用白光干涉仪对其 3D 轮廓进行测量。选取刻蚀后的 6 英寸晶圆玻璃,设置合适的测量范围和分辨率参数,对其表面进行扫描。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    21110编辑于 2025-09-29
  • 白光干涉仪在晶圆湿法刻蚀工艺后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪凭借非接触、高精度、大面积成像的特性,成为湿法刻蚀后 3D 轮廓测量的核心工具,为腐蚀液浓度优化、刻蚀时间控制提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 典型应用案例在硅片湿法减薄测量中,白光干涉仪检测出边缘 5mm 区域的厚度比中心厚 18nm(目标厚度 500μm),追溯为腐蚀液边缘浓度降低,调整旋转速度后均匀性提升至 3σ=7nm。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。​

    29610编辑于 2025-09-26
  • 【新启航】白光干涉仪在 IC 芯片光刻后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪凭借非接触、高精度、三维轮廓重构的特性,成为光刻后 3D 轮廓测量的核心工具,为曝光剂量优化、光刻胶性能评估等工艺改进提供了精准数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 白光干涉仪的技术适配性高精度三维参数提取能力白光干涉仪的垂直分辨率达 0.1nm,横向分辨率 0.3μm,通过垂直扫描干涉(VSI)模式可重建光刻图形的完整三维形貌。 典型应用案例在 5nm 逻辑芯片的栅极光刻测量中,白光干涉仪检测出某曝光场的 CD 均匀性达 3.5%(标准 < 2%),高度标准差 5nm(标准 < 3nm),追溯为曝光剂量分布不均所致,调整光源强度后均匀性提升至 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。

    38210编辑于 2025-09-10
  • 白光干涉仪在 EBL 电子束光刻后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪凭借非接触、高精度、三维成像的特性,成为 EBL 光刻后 3D 轮廓测量的关键工具,为电子束剂量优化、显影工艺改进提供精准数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 典型应用案例在 100nm 周期光栅的 EBL 测量中,白光干涉仪检测出光栅高度标准差达 8nm(设计值 100nm),LER=1.2nm,追溯为电子束光斑能量分布不均,调整束流校正后高度标准差降至 3nm 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。​

    33910编辑于 2025-09-11
  • 白光干涉仪在接触式光刻 Contact Lithography 后的 3D 轮廓测量

    白光干涉仪凭借非接触、大面积、高精度的特性,成为接触式光刻后 3D 轮廓测量的核心工具,为掩模贴合精度优化、曝光能量参数调整提供关键数据支撑。 白光干涉仪的技术特性恰好适配这些测量难点。 高效批量检测能力通过大视场物镜(视场直径 > 10mm)与快速扫描技术,白光干涉仪可在 3 分钟内完成 2cm×2cm 区域的三维成像,相比探针式测量效率提升 10 倍以上。 大视野 3D 白光干涉仪:纳米级测量全域解决方案​突破传统局限,定义测量新范式!大视野 3D 白光干涉仪凭借创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量的高效精密。 3)动态测量新维度:可集成多普勒激光测振系统,打破静态测量边界,实现 “动态” 3D 轮廓测量,为复杂工况下的测量需求提供全新解决方案。​

    32110编辑于 2025-09-12
领券