光掩膜清洗设备突围：捷佳伟创的“第二增长曲线”终于兑现

7月29日，捷佳伟创子公司创微微电子自主研发的光掩模清洗设备，在多家终端Fab厂完成验证并实现量产交付。关键零部件国产化率超80%，软件完全自主开发。

光伏设备巨头，正在半导体赛道撕开一道口子。

光掩膜清洗：比晶圆清洗更苛刻的“最后一关”

光掩膜是芯片制造中光刻环节的“底片”——电路图案通过它投影到晶圆表面。掩膜版上任何微米级的颗粒或水痕，都会被成百上千倍地放大到晶圆上，直接导致整批芯片报废。

创微微电子的设备，在颗粒控制、无水痕、表面洁净度上都满足先进制程要求。产品矩阵覆盖5英寸至9英寸多种尺寸石英光掩膜，支持前后面全自动清洗、可选AOI颗粒检测、SMIF自动上下料。专为6025型石英玻璃光掩膜设计的单片式清洗设备，提供纯Spin Type及Bench+Spin复合工艺两种配置。

从光伏到半导体，捷佳伟创的“技术平移”逻辑正在被验证。

公司主营光伏电池片设备，清洗制绒、扩散、刻蚀、PECVD等工艺与半导体环节高度相关。近年来持续向半导体设备领域延伸，布局4至12吋批式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备，已拿到头部芯片企业订单。此次光掩膜清洗设备的量产交付，证明这套“技术平移”逻辑已经从战略规划变成了商业现实。

但比订单更值得关注的，是国产化率超80%这个数字。

光掩膜清洗设备长期被日本、德国少数企业垄断。关键零部件国产化率超80%，意味着这台设备不是“进口零部件组装”，而是从供应链层面实现了自主可控。在半导体设备这个“卡脖子”最深的领域，国产化率每提升一个百分点，都意味着产业链安全性的实质性增强。

捷佳伟创正在从“光伏设备龙头”走向“泛半导体设备平台”。

2025年，公司营收约150亿元级别，光伏设备仍是绝对主力。半导体设备业务体量尚小，但此次光掩膜清洗设备的量产交付，标志着半导体业务已从“布局”进入“兑现”阶段。在光伏行业产能出清的背景下，半导体设备这条“第二曲线”的价值正在被重新审视。

当然，挑战同样真实。 光掩膜清洗设备市场容量相对有限，全球市场规模约10亿美元级别。从“量产交付”到“规模化收入”，中间还隔着客户复购和份额提升的漫长时间。但方向已经确立——当一家光伏设备巨头在半导体光掩膜清洗这个细分赛道上完成从0到1的突破时，它证明的不是自己有多强，而是“光伏+半导体”双轮驱动的战略正在从PPT走向产线。

真正的产业跃迁，不是在光伏产能过剩时转型的口号里被宣告的，而是在每一台光掩膜清洗设备通过Fab厂的验证、完成量产交付、持续被下单的过程中被验证的。 从光伏到半导体，捷佳伟创用一台光掩膜清洗设备，写下了“第二曲线”的第一行代码。而代码的后续，要在更多客户、更多产线、更多订单中继续编写。