- 综合排序
- 最热优先
- 最新优先
- 来自专栏测试GO材料测试
前沿实验室丨形貌与晶体结构表征技术全解析
前沿实验室形貌与晶体结构表征技术全解析在新能源材料研发的赛道上，每一次突破都始于对材料微观世界的精准洞察。 从锌负极的枝晶抑制到高镍正极的相变调控，从水系电池的界面优化到固态电池的电解质设计，材料的形貌特征与晶体结构始终是决定性能的核心要素。 测试GO前沿实验室依托国际领先的表征平台，提供创新的前沿表征方案与技术支持，打造五大"科研利刃"，帮助您发掘新质内容，实现科研突破，提升论文档次，迈向学术高峰。 该技术不仅适用于电极/电解质界面分析，更可拓展至催化剂载体、传感器芯片等领域的表面工程研究，为"表面改性与性能优化"提供量化依据。 三维形貌图（CT重构/三维表面重建）二维图像只能呈现材料的"表象"，而三维形貌重构通过断层扫描（CT）或共聚焦成像，构建毫米级至纳米级的三维数字模型，还原材料的真实空间结构。
47110编辑于 2025-08-14 - 来自专栏测试GO材料测试
同步辐射GIWAXS在有机半导体材料中的应用-测试GO
同步辐射GIWAXS在有机半导体材料中的应用同步辐射掠入射广角X射线散射（GIWAXS）技术在有机半导体材料的研究中具有广泛的应用，它能够深入分析薄膜的形貌、结晶结构以及分子取向，进而揭示这些结构特性与材料性能之间的关系 GIWAXS在有机半导体材料研究中的应用薄膜形貌与结晶结构分析晶体结构确定：GIWAXS可以用来确定有机半导体薄膜的晶体结构，包括晶胞参数、空间群等信息。 了解晶体结构是理解材料物理化学性质的基础。 例如：掠入射小角X射线散射（GISAXS）：GISAXS可以提供关于薄膜纳米尺度形貌的信息，与GIWAXS结合使用可以更全面地了解薄膜的结构。 原子力显微镜（AFM）：AFM可以提供薄膜表面的形貌信息，与GIWAXS结合使用可以了解表面形貌与内部结构的关系。 透射电子显微镜（TEM）：TEM可以提供薄膜微观结构的直接图像，与GIWAXS结合使用可以更准确地确定晶体结构和取向。
79100编辑于 2025-08-01 - 来自专栏行走的机械人
【工程材料B】二：金属的晶体结构与缺陷
2：求出待定晶面在三坐标轴上的截距，若晶面与某一轴平行，则认为该晶面在该轴上的截距为无穷大，倒数为0. 3：取各轴截距的倒数，并化为最小整数，放入()内 如下图，红色面为（111），蓝色面为（001） 注意事项： 1：所有相互平行的晶面都具有相同的晶面指数 2：在立方晶系中，相同指数的晶面与晶向相互垂直，如下图 ? 面缺陷： 晶界指晶粒与晶粒之间的过度界面，是能对材料性能产生显著影响的一类面缺陷。 ?
2.6K20发布于 2020-06-04 【新启航】如何解决碳化硅衬底 TTV 厚度测量中的各向异性干扰问题
各向异性干扰产生的原因碳化硅晶体的各向异性主要源于其独特的晶体结构。不同晶面的原子排列方式和键合强度存在差异，使得在进行 TTV 测量时，测量仪器与衬底表面的相互作用因晶向不同而变化。 例如，在原子力显微镜（AFM）测量中，探针与不同晶面的接触力和摩擦力不同，导致测量的表面形貌出现偏差。 XRD 通过分析晶体的衍射图谱获取晶格参数，进而计算衬底厚度，其测量结果受表面形貌和晶向影响较小。 同时，可对衬底进行表面钝化处理，改变表面物理化学性质，减小测量仪器与衬底表面的相互作用差异 。数据处理与校正建立基于碳化硅晶体各向异性特性的数学模型，对测量数据进行校正。 利用已知的晶体结构和物理性质参数，结合测量得到的数据，通过算法补偿各向异性带来的偏差。
28110编辑于 2025-08-08- 来自专栏模拟计算
测试GO前沿实验室：为水系电池研究提供多维度表征解决方案
测试狗前沿实验室针对水系电池研发中的关键科学问题，整合先进表征技术与理论模拟手段，为科研工作者提供从材料本征性质到界面动态行为的全链条分析服务，助力电池性能优化与机理探索。 一、核心表征技术：揭示电池材料的微观世界形貌与晶体结构分析三维形貌图：利用扫描电子显微镜（SEM）与原子力显微镜（AFM）技术，可视化锌负极沉积形貌（如枝晶抑制效果）、SEI膜分布状态，结合能谱分析揭示元素组分空间分布 电化学石英晶体微天平（EQCM）：监测硫基电极的质量变化，区分活性物质转化与非活性产物生成。 循环伏安（CV）与恒流充放电：配合原位XRD或拉曼光谱，揭示电极反应可逆性与相变机制。 反应自由能计算：预测多硫化物穿梭效应或锌枝晶生长的热力学倾向，指导添加剂设计与界面工程。
20810编辑于 2025-08-11 成会明院士周光敏副教授Nature protocols：废锂电正极超快直接再生与升级再造的普适性策略！
如图3e所示，这组失效正极材料的微观形貌显示出尺寸在1到3微米之间的球形单晶。 如图4a、b所示，再生材料的晶胞参数分别为8.2326 Å和8.2311 Å，表明晶体结构成功恢复，晶格坍塌问题得以解决。 在两种再生过程中经过重结晶和晶体生长后，两种再生材料均展现出尖晶石正极材料特有的八面体形貌。 U-LNMO的晶体结构保留了尖晶石构型，其结构参数与商业材料（C-LNMO）相当。从形貌上看，与LMO相比，U-LNMO展现出典型的八面体形状，边缘和角落更加锋利（图6d）。 相变还改变了材料的生长面，导致其形貌偏离八面体结构，形成了具有替代形状的单晶（图8d）。
56000编辑于 2025-08-19碳化硅衬底 TTV 厚度测量方法的优劣势对比评测
目前，针对碳化硅衬底 TTV 厚度测量存在多种技术手段，每种方法都有其独特的适用场景与局限性。全面评测这些测量方法的优劣势，有助于科研与生产人员根据实际需求选择最佳方案，提升测量的准确性与效率。 例如，白光干涉仪通过分析干涉条纹获取表面形貌信息，可快速完成大面积测量，适用于生产线上的快速抽检。此外，该方法操作相对简便，对操作人员的技术要求较低，设备成本也相对适中，易于在企业中推广使用。 原子力显微镜测量法优势原子力显微镜（AFM）测量法能够实现纳米级的超高测量精度，可清晰获取碳化硅衬底表面的微观形貌信息，准确测量 TTV 厚度 。 X 射线衍射测量法优势X 射线衍射（XRD）测量法对碳化硅晶体的各向异性不敏感，测量结果受表面形貌和晶向的影响较小，能够准确测量衬底内部的晶格参数，进而计算出 TTV 厚度 。 对于晶体结构复杂、各向异性明显的碳化硅衬底，XRD 测量法具有独特的优势，可提供可靠的测量结果。劣势XRD 测量设备庞大复杂，操作难度高，需要专业的技术人员进行操作与维护 。
39400编辑于 2025-08-09- 来自专栏等离子设备的应用
等离子体处理对壳聚糖膜表面形貌的影响
射频等离子清洗机对壳聚糖表面形貌的影响壳聚糖是一种生物衍生的带正电荷多糖，具有优良的生物相容性和降解性能，近年来，由于其优良的成膜性能和良好的光学性能，壳聚糖膜在角膜组织工程及角膜修复材料研究领域得到越来越广泛重视 一般认为， 对于无规则形貌，粗糙表面有利于细胞黏附，且材料表面粗糙度对细胞相容性的影 响与材料表面所吸附蛋白质种类和数量有关。 在此，我们仅以等离子体表面处理对壳聚糖膜表面形貌影响做一些讨论和演绎未经等离子处理的AFM图O2 100W 60S处理后的AFM图片O2 150W 60S处理后的AFM图片100W的等离子体处理壳聚糖膜表面光滑平整 主要原因是等离子体处理后暴露大气，表面活性自由基与空气中的氧气、水汽等反应是等离子体处理样品表面极性化的主要过程，表面氧含量得到增加。
37920编辑于 2023-08-08 - 来自专栏睐芯科技LightSense
三种超精密光学结构表面形貌测量方法
测量物体时，PZT 驱动物镜改变物距，调节待测品表面与焦平面的距离，越靠近焦平面，光电倍增管感应到的光信号越强。 当光信号感应到达峰值时，表示待测品表面到达焦平面位置，投射在测量表面上的激光汇聚成一点，根据仪器与该测量点的数学关系可以计算该点的高度信息。 对待测品上的各个点依次测量，就可以获求取待测品的整个形貌高度。 激光干涉术利用单色光作为光源，单色光通过干涉光路分别投射到被测表面和参考镜，然后反射回来汇集形成干涉条纹，用相机采集条纹图，经相移算法提取条纹图相位信息，并根据相位与光程差之间的对应关系得到表面三维形貌 文章截取自：白光扫描干涉测量的自动对焦方法与三维重构系统开发，梁航，广东工业大学硕士学位论文。
62910编辑于 2024-07-24 - 来自专栏测试GO材料测试
关于合成MOF时的形貌控制的干货综述-测试GO
实现形貌控制的机理首先列举了一些关于MOF的合成方法，并整理出了关于MOF形貌控制的机理：1.配位调节机制（也称为复合物形成的调节）用于获得金属有机框架的配位调制方法的示意图。 （a） MOF的大小和（b）形态的控制通常通过添加与连接体具有相同化学官能团的试剂来实现（机理I）。2.质子化/去质子化机制（酸碱调节）用于控制金属有机框架形态的质子化/去质子化机制（机制II）。 不同因素对MOF形貌的影响1.反应体系pH对MOF形貌影响常用的碱性调节剂包括：甲酸钠、乙酸钠、三乙胺(TEA)、1-甲基咪唑、正丁胺、吡啶、四甲基氢氧化铵(TMAOH)，使用这些碱性化合物的主要目的并不是将反应介质的 ），pH=2.2–2.4：小八面体（MOF-10），pH=2.5：小八面的体（MIL-100和MIL-110的混合物），pH/2.6和pH=2.7：小八面体和定义不清的六方晶体的混合物（MIL-100与MIL 6.微波的影响微波是一种频率从300 MHz到600 GHz的电磁辐射，并且由于电磁波与反应环境中的极性溶剂和/或离子的相互作用，可以与已知的合成策略结合以缩短制备时间。
57010编辑于 2025-11-04 - 来自专栏Mac软件分享
CrystalMaker for Mac(晶体结构软件)v10.8.1激活版
晶体结构软件CrystalMaker for mac创建、显示和操作各种晶体和分子结构 ，CrystalMaker Mac版便捷、灵活，能够容易的载入结构数据并产生壮观的，相片型的图形，戴上红/蓝眼镜， 图片CrystalMaker for Mac(晶体结构软件)crystalmaker Mac版功能特色1、集成结构库 - 现在添加自己的CrystalMaker X包含一个具有1000多种结构的集成结构库
85420编辑于 2022-11-09 - 来自专栏DrugOne
Bioinformatics | XRRpred:根据蛋白质序列精确预测晶体结构质量
二、模型与方法 2.1 数据集 采用128017个从PDB中提取的蛋白质结构。利用PDB工具以30%的序列相似度对这些结构进行聚类，再为每个聚类选择一个结构来均匀采样。 2.2 评估指标 将包括XRRpred在内的各种模型预测的分辨率与R-free同实验测量值相比较。 通过预测溶剂可及性来识别表面残基，因为暴露在蛋白质表面的残基更可能影响产生的晶体结构质量。 第二步： 提取蛋白质水平的特征。 这个分数与分辨率和R-free成反比。使用最小最大归一化将这些预测转换为训练数据集中的分辨率和R-free值的范围，使得最小(最大)结晶倾向被映射到最高(最低)分辨率/R-free值。 采用XRRpred得到的预测值与实验得到的结构质量具有相似的分布。相反，使用其他预测方法得到的结构质量并没有正确展示这几种结构类别蛋白质之间的结构质量分布。
70511发布于 2021-09-17 - 来自专栏智能生信
|生成对抗网络预测晶体结构
这种方法的缺点是不能超越数据库中现有晶体结构的模板。 一些有希望探索未知晶体结构的方法包括使用全局优化的晶体结构预测方法和机器学习中的生成模型。本文采用第二种方法。 在本次工作中，将晶体结构表示为一组原子坐标和细胞参数。构建一个GAN模型来生成带有需求化学成分的新晶体结构，并将其应用于Mg-Mn-O三元体系。 二、模型与方法 2.1 数据表示 使用一个二维矩阵来对晶体结构进行编码，矩阵中包括晶胞参数(长度、角度)和晶胞中每个原子的坐标。如下图1所示。 ? 图1. 图3.GAN结构 三、实验结果 3.1 与iMatGen的比较 在将当前模型应用于Mg-Mn-O体系之前，我们首先比较了iMatGen工作中使用的V-O体系的结果。 因此，当前模型的性能似乎与iMatGen相当。 3.2 三元Mg-Mn-O光阳极材料的高通量筛选 生成了三元镁锰氧材料，并对其光阳极性能进行了评估，以找到性能更好的结构。
99520发布于 2021-02-04 - 来自专栏智能生信
Bioinformatics | XRRpred:根据蛋白质序列精确预测晶体结构质量
二、模型与方法 2.1 数据集 采用128017个从PDB中提取的蛋白质结构。利用PDB工具以30%的序列相似度对这些结构进行聚类，再为每个聚类选择一个结构来均匀采样。 2.2 评估指标 将包括XRRpred在内的各种模型预测的分辨率与R-free同实验测量值相比较。 通过预测溶剂可及性来识别表面残基，因为暴露在蛋白质表面的残基更可能影响产生的晶体结构质量。 第二步： 提取蛋白质水平的特征。 这个分数与分辨率和R-free成反比。使用最小最大归一化将这些预测转换为训练数据集中的分辨率和R-free值的范围，使得最小(最大)结晶倾向被映射到最高(最低)分辨率/R-free值。 采用XRRpred得到的预测值与实验得到的结构质量具有相似的分布。相反，使用其他预测方法得到的结构质量并没有正确展示这几种结构类别蛋白质之间的结构质量分布。
1.1K30发布于 2021-09-10 - 来自专栏DrugOne
. | SurFF：跨金属间化合物晶体表面暴露与形貌的基础模型
准确预测表面暴露对于多相催化剂设计至关重要，但实验与计算成本长期限制了这一进展。研究人员提出了 SurFF，一个基于机器学习力场的基础模型，用于预测金属间化合物晶体的表面暴露与可合成性。 与实验和计算结果的对比表明，SurFF 预测可靠，能够在 6,000 余种金属间化合物晶体上大规模预测表面能与 Wulff 形貌，为催化剂研究提供了宝贵数据。 尤其是晶体材料中的 表面活性 与 表面暴露：前者决定反应速率，后者决定某一表面能否形成以及暴露程度，即合成可行性。 测试结果显示，该模型在表面能预测上的平均误差仅为 3.8 meV/Ų，与 DFT 精度相当。 例如： 目前数据集未显式包含温度、压力等条件下的动力学效应； 模型未能捕捉晶体在实际环境中的动态重构与形貌变化； 实验验证数据仍有限，需要高分辨电镜与原位光谱学进一步补充。
27810编辑于 2025-10-14 - 来自专栏GEE数据专栏，GEE学习专栏，GEE错误集等专栏
2016-2018 年四次 ATom 活动期间由激光质谱粒子分析仪（PALMS）测量的单粒子气溶胶成分
这包括晶体结构、表面形貌和粒子之间的关联。这有助于我们了解粒子的物理性质和活性。 分子特征：PALMS可以分析粒子中的单个分子，从而提供有关其构造和化学组成的详细信息。
17700编辑于 2024-11-21 - 来自专栏智能生信
CrystEngComm | 基于接触图的全局优化的晶体结构预测
目前，全局优化算法与第一性原理自由能计算相结合，以预测晶体组成或晶体结构。这些方法虽然可以在搜索过程中利用某些晶体模式，但它们却不利用晶体结构中所体现的原子构型的隐式规则和约束。 二、材料与方法 2.1 基于knowledge-rich的接触图的CSP 周期性晶体结构可以用晶格常数a、b、c以及空间群的角α、β和γ来表示，且其具有唯一的Wyckoff位置坐标，作者使用vesta软件使用的阈值来定义接触图中原子的阈值 2.2 使用全局优化进行接触图的CSP 作者采用全局优化算法通过最大化预测的晶体结构接触图与实际的晶体结构接触图之间的匹配来搜索坐标。 表2还显示了预测结构与目标结构相比的RMSD和MAE，这两者都是根据独立原子位点的分数坐标计算出来的。 ? 图3 由CMCrystal预测的晶体结构与真实的目标结构 图3显示了B4N4、Bi4Se4和Co4As8的预测结构与目标结构，对于B4N4和Bi4Se4接触图精度达到100%，预测结构非常接近目标结构；
1.3K20发布于 2021-05-17 - 来自专栏智能生信
AAAI Spring Symposium 2019|CrystalGan:使用生成对抗网络发现晶体结构
本文提出的CrystalGan可以生成更高复杂度的新的稳定的晶体结构。本文提出的这一种高效的方法在新型氢化物发现等实际问题中可能会有比较深入的应用。 ? 因此，本文采用GAN的模型来生成新的晶体结构。 本文的目标是寻找一种可以得到三元稳定化合物的方法。目前并没有合适的方法可以直接应用于本问题。 ；与现有方法相比本文提出的方法在实际化学和材料领域中更具有竞争力；本文体重的方法使用python实现，会开源提供使用。 晶体结构由一个局部分布来描述。这种分布由给出的晶体结构中的每个原子的最近邻的距离决定。这一步满足几何约束，约束细节见图1 b。 ? 图2. 各模型实验结果 下图5为一种新生成的结构：左边为晶体结构中的最近邻距离，右边为POSCAR文件。 ? 图5.
1.1K10发布于 2021-02-04 - 来自专栏用户10436734的专栏
晶体结构分析 MDI Jade软件安装包下载，MDI Jade安装激活
MDI JadeX射线衍射软件是一款专业的晶体结构分析软件，以其强大的数据处理和分析能力、多样的样品类型和实验条件等特色功能深受广大研究者的喜爱。 该软件可以进行精确、快速的晶体结构测定和分析，帮助研究者更好地了解晶体结构的性质和特点。本文将从MDI JadeX软件的特色功能、使用方法和实例演示三个方面，详细介绍该软件的功能和优势。 进行晶体结构测定和分析，如晶格常数计算、空间群确定等操作。导出结果文件，将计算得到的参数输出为CIF、PDF、TXT等格式。 通过以上流程，用户可以快速地进行晶体结构的测定和分析，帮助研究者更好地了解晶体结构的性质和特征。 通过以上流程，用户可以快速地进行晶体结构的测定和分析，并输出高质量的结果文件。
87930编辑于 2023-04-21 - 来自专栏测试GO材料测试
生物SEM和普通SEM在制样与检测流程上的全面对比-测试狗
生物SEM和普通SEM在制样与检测流程上的全面对比扫描电子显微镜（SEM）作为观察微观形貌的重要工具，在材料科学、生物学等领域广泛应用。 特殊干燥技术：采用临界点干燥（CPD）或冷冻干燥技术，保留表面形貌。低损伤导电处理：对敏感生物样品采用薄层金属/碳镀膜，或直接使用低真空模式检测。2. 多模态分析：可选配能谱仪（EDS）进行元素分析，或与荧光显微镜联用实现形貌-成分-功能的综合表征。三、生物SEM服务的典型应用场景生命科学研究：观察细胞凋亡、吞噬作用等动态过程的表面形貌变化。 解析病毒颗粒与宿主细胞的相互作用机制。医学与药学：评估药物载体（如脂质体、纳米颗粒）的形貌与分布。分析植入材料（如人工骨、血管支架）与生物组织的界面结合情况。 农业与环境科学：研究植物气孔开闭机制、病原菌侵染过程。检测微生物在污染物降解中的生物膜形成。四、生物SEM测试服务流程需求沟通：明确样品类型、检测目标（如表面形貌、元素分布）。
37100编辑于 2025-03-19
腾讯云开发者
Copyright © 2013 - 2026 Tencent Cloud. All Rights Reserved. 腾讯云 版权所有
深圳市腾讯计算机系统有限公司 ICP备案/许可证号：粤B2-20090059 
粤公网安备44030502008569号
腾讯云计算（北京）有限责任公司 京ICP证150476号 | 京ICP备11018762号