晶升股份自主研发的大尺寸CVD SiC涂层成套设备完成交付

观点网讯：近日，晶升股份自主研发的大尺寸CVD SiC化学气相沉积涂层成套设备完成整机出厂检验，正式装车发运交付客户。该设备是国内自主研发的大尺寸碳化硅涂层工艺装备，标志着晶升股份在大尺寸SiC涂层装备领域取得关键技术进展。

SiC是第三代半导体核心材料，CVD涂层工艺是制备高性能SiC器件的核心环节。此前，国内大尺寸CVD SiC涂层设备主要依赖进口，本次交付的设备将应用于碳化硅器件的批量生产环节，为半导体热场关键部件的国产化制造提供有力支撑。

免责声明：本文内容与数据由观点根据公开信息整理，不构成投资建议，使用前请核实。