电子束曝光系统的分类

电子束曝光的基本概念？

电子束曝光是用聚焦的电子束在涂有电子束光刻胶的基板上直接"写"出图形，不需要掩模（或用于制作掩模）。它的分辨率极高（可达纳米级），但速度慢，主要用于掩模制作和高分辨率研究。

按用途分为两大类：制作掩模（Mask Making）和高分辨率图形化（High Resolution Patterning）。

电子束曝光系统的分类？

一，用于掩模制作

这类系统用来制造光刻用的掩模版（Mask/Reticle），追求大面积、高效率。

有两种光束方式：

圆形束 + 光栅扫描（Round spot beam + Raster scan）

特点：像打印机一样逐行扫描整个版面，扫描路径固定，适合大面积均匀写入。

成形束（Shaped beam）

特征 含义

Shaped beam（成形束）

电子束截面被整形成矩形或可变形状，一次曝光一个面块

特点：不是用小圆点一点点画，而是用一个成形的"块"一次曝一片，效率比圆形束高得多。现代掩模制作主流用可变成形束（VSB，Variable Shaped Beam），一次打一个矩形，大幅提速。

二：用于高分辨率图形化（For High Resolution Patterning）

这类系统用于直写高分辨率图形（如研究、小批量、原型器件），追求极致分辨率。

图中列出的特征：

圆形束（Round spot beam）

同样用圆形光斑，但这里追求的是极小的束斑以获得最高分辨率。

矢量扫描像"点对点"直接跳到要曝光的位置，空白区不浪费时间，适合图形分散的高分辨率写入。

两类系统对比总结？

来源于Tom聊芯片智造，作者芯片智造