【盘中特供】我国纳米压印光刻机领域取得重大突破，望与光学光刻形成互补共存的新格局，两家产业链核心公司望受益

我国纳米压印光刻机领域取得重大突破，望与光学光刻形成互补共存的新格局，两家产业链核心公司望受益。

我国纳米压印光刻机领域取得重大突破，望与光学光刻形成互补共存的新格局，两家产业链核心公司望受益。

2026年6月5日，璞璘科技向深圳力策科技正式交付PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻机，基于该设备双方已成功实现8英寸光芯片晶圆的规模化量产验证。整个制造过程完全绕开深紫外（DUV）光刻路线，单片芯片制造成本被压缩至传统DUV方案的十分之一。此前璞璘已实现国内首款半导体级步进式纳米压印设备落地，本次量产机型从工艺研发进阶到产线替代，打破海外厂商在半导体级纳米压印装备上的垄断封锁。

纳米压印光刻机被视为传统光学光刻机之外的重要替代路线。其原理类似“盖章”，通过物理接触将掩模上的电路图案直接压印在晶圆上，从而绕开了传统光刻的衍射极限，理论上可实现媲美甚至超越EUV的高分辨率。其核心优势在于设备构造简单，制造成本较EUV降低约四成；无需复杂光源，耗电量仅为EUV的十分之一；且能一次性形成复杂三维电路。目前，该技术已在3D NAND等存储芯片及AR光学元件领域展现出广阔前景。随着技术的加速突破攻关，纳米压印有望在未来与光学光刻形成互补共存的新格局。

苏大维格（300331）公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，公司通过多年技术攻关，现已掌握纳米压印光刻底层核心技术。公司产品可广泛用于微纳光学（包装防伪、交通反光膜材、液晶显示导光板）及微电路（TFT触控、miniLED显示）制造领域。晶方科技（603005）是传感器封测龙头，公司多年布局纳米压印技术，并在相关领域取得了显著增长。