我正在使用正交投影来绘制我的对象。每个对象项被添加到不同的缓冲区,并在几个循环中绘制。假设每个对象都有一个轮廓正方形,并对正方形进行填充(使用不同的颜色)。所以我先画出所有的填充物,然后画出轮廓。
我使用深度缓冲区来确保轮廓不会覆盖所有的填充,如图所示

现在我面临一个问题,每个对象上都包含另一个绘图项目(比如文本点),这个项目可能比这个方块还长。因此,我使用模具缓冲区来剪切这个额外的画在正方形上。但是,在执行此操作时,不会考虑深度缓冲区。这意味着一个文本项可以画在另一个正方形上。如下所示。

有没有什么办法\让它发生?
发布于 2014-07-13 18:56:22
您应该能够为每个正方形设置模板缓冲区的不同值(假设有<= 255个正方形,因为您不能获得超过8位的模板缓冲区)。对于未通过深度测试的像素,将模板值配置为KEEP,这会导致由前面较远但较早绘制的四元组编写的任何模板值被保留。
这将允许单独裁剪每个文本。
另一种方法是仅使用深度缓冲区,并将当前四边形的像素范围传递到文本像素着色器中,在该着色器中可以丢弃任何额外的像素。这需要较少的状态更改。
https://stackoverflow.com/questions/24721843
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